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激光直寫的應用領域

點擊量:552 日期:2023-08-29 編輯:硅時代

激光直寫光刻(laser direct write lithography,LDWL)作為一種無掩模光刻技術(shù),是利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光,顯影后在抗蝕層表面形成所要求的圖形。

無掩模光刻技術(shù),即直接寫入技術(shù),主要有電子束直寫和激光直寫兩種。這種光刻技術(shù)無需掩模制作、圖形光刻轉(zhuǎn)移、套刻、多次蝕刻等過程,減少了誤差來源,提高了器件的制作效率與精度。另外,直寫技術(shù)因為無需掩模制作,所以節(jié)省了掩模制作的費用。掩模成本在整個光刻成本中所占的份額是比較大的,就目前形勢來看,掩模的價格是呈直線上升態(tài)勢。由于掩模版價格日益高漲,開發(fā)無掩模的光刻技術(shù)成為一種潮流,它是降低掩模不斷飛升的一個潛在解決方案,是一種有前途的光刻技術(shù)。

而激光直寫技術(shù)相對于電子束直寫,由于更為廉價而得到發(fā)展。其工作機理和電子束直寫機理類似。通過點曝光或連續(xù)曝光的方式,在感光層上直接產(chǎn)生圖形。具體來說,就是利用聚焦的激光光束,由計算機控制聲光調(diào)制器、平臺或轉(zhuǎn)臺的運動,在光刻膠上進行曝光,產(chǎn)生預定圖形,經(jīng)過顯影得到所需要的圖像。

激光直寫曝光機市場在近年來呈現(xiàn)出快速增長的趨勢。主要原因是隨著電子信息技術(shù)的不斷發(fā)展,對高精度、高速度、高效率的生產(chǎn)設備需求不斷增加,而激光直寫曝光機正好滿足了這些需求。

目前,激光直寫曝光機市場主要分為兩個領域:半導體制造和PCB制造。在半導體制造領域,激光直寫曝光機主要用于芯片制造中的光刻工藝,具有高精度、高速度、高穩(wěn)定性等優(yōu)點,可以實現(xiàn)微米級別的曝光精度,因此在半導體制造領域市場需求較大。在PCB制造領域,激光直寫曝光機主要用于制作高密度、高精度的電路板,可以實現(xiàn)高速度、高精度的曝光,因此在PCB制造領域市場需求也較大。

除了半導體制造和PCB制造領域,激光直寫曝光機還可以應用于3D打印、光刻制造、微納加工等領域,這些領域的市場需求也在逐漸增加。

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